A litografia EUV da ASML continua a ser a "barreira mais difícil" da China no impulso dos semicondutores, diz especialista holandês

Segundo Marc Hijink, escrevendo no Het Nieuwe Rijnmond, a indústria de semicondutores da China enfrenta a sua barreira técnica mais significativa nos equipamentos de litografia ultravioleta extrema (EUV), atualmente fabricados exclusivamente pela gigante holandesa ASML, sem qualquer tecnologia alternativa disponível.

Hijink observou que a ASML gastou aproximadamente 15 anos a desenvolver a tecnologia EUV desde o princípio laboratorial até à produção em massa, integrando capacidades complexas de fonte de luz e fabrico de precisão. O concorrente japonês Nikon, que investiu mais de 100 mil milhões de ienes em investigação EUV, não conseguiu produzir equipamento comercialmente viável e retirou-se do mercado. Entretanto, a China investiu anos em investigação EUV e garantiu patentes, mas continua sem equipamento de produção comercializado. Hijink enfatizou que o desenvolvimento da EUV representa uma «terra de ninguém» tecnológica para as empresas chinesas sob os atuais controlos de exportação, concentrando recursos que nenhuma empresa isolada consegue replicar facilmente.